項目研究開發內容為高純鋁箔在腐蝕性介質體系中的蝕核萌生和擴孔技術。通過流程設計、工藝條件參數調整，生產出孔密度均勻，大孔徑、孔深均勻的腐蝕箔。頻閃燈化成箔研究開發內容為使用高介電常數介質膜的生長技術使頻閃燈腐蝕箔在化成液中形成新的氧化膜。通過流程設計、工藝條件參數調整，生產出低損耗、低漏電電流頻閃燈化成箔，滿足頻閃燈鋁電解電容器制作性能要求，滿足頻閃燈急速充放電特性，頻閃次數達到每秒鐘10次以上。