名稱：阻垢劑
 



品牌
 

型號
 

主要用途及特性
 



恒通源
 

HW602
 

應用于反滲透裝置處理系統
 



GE貝迪
 

MDC200
 

高效液體阻垢劑，用于控制膜分離系統中結垢沉積物，減少微粒阻塞。
 



GE貝迪
 

MDC220
 

高能效液體阻垢劑，用于控制膜分離系統中控制碳酸鈣、硫酸鹽及氧化鐵沉淀所造成的結垢。
 



GE貝迪
 

MDC150
 

高效能的液狀阻垢劑配方，用于控制膜分離系統中控制碳酸鈣、硫酸鹽及氧化鐵沉淀所造成的結垢。
 



GE貝迪
 

MDC151
 

高效能的液狀阻垢/分散劑，用于控制膜分離系統中控制碳酸鈣、硫酸鹽及氧化鐵沉淀所造成的結垢。使用此阻垢劑后可延長系統清洗周期
 



GE貝迪
 

MDC702
 

與絮凝劑相容的液體阻垢/分散劑，用以控制結垢和減少顆粒污染，LSI值達3.0還不結垢，與MPT150兼容。
 



GE貝迪
 

MDC704
 

可適用于不同水源，結合了有機磷酸鹽及分散性高分子聚合物來防止硬度及氧化鐵沉積。
 



GE貝迪
 

MDC706
 

高效能的液狀阻垢/分散劑，用于控制膜分離系統中控制碳酸鈣、硫酸鹽及氧化鐵沉淀所造成的結垢,廣泛應用于反滲透及納濾裝置中。
 



GE貝迪
 

MDC756
 

與絮凝劑相容的液體阻垢/分散劑，用以控制結垢和減少顆粒污染，與MPT150兼容。阻垢能做到濃水側LSI值達3.0。
 



GE貝迪
 

MDC708
 

高效能的液狀阻垢/分散劑，用于控制膜分離系統中的垢沉積。減小微粒在污堵膜表面的可能。
 



GE貝迪
 

MDC754
 

與絮凝劑相容的液體阻垢/分散劑，用以控制結垢和減少顆粒污染，與MPT150兼容。阻垢能做到濃水側LSI值達3.0。
 



GE貝迪
 

MSI300
 

有效控制無機鹽類結垢并特別針對二氧化硅在廢液中高達240ppm還不致結垢，碳酸 鈣、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶等可高達+3.0LSI還不會結垢所有主要反滲透膜都能使用 
 



GE貝迪
 

MSI410
 

高效能的液狀阻垢/分散劑，用來控制膜分離系統中硅酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽及氧化鐵沉淀所造成的結垢，具有獨特的硅阻止沉積性能。
 



納爾科
 

PC-191
 

一種高效的復合配方阻垢劑。專用于反滲透系統，能有效防止無機鹽在膜表面的沉積，并通過對溶解鐵的保持作用及不溶解鐵的分散作用來防止反滲透膜上鐵垢的形成。
 



納爾科
 

PC-191T
 

專為反滲透（RO）系統開發的一種高效阻垢劑。在反滲透膜上形成污垢與鐵垢會使 水處理系統性能惡化，并需要提前更換反滲透膜。
 



納爾科
 

OSM 35
 

專為反滲透（RO）系統開發的一種高效阻垢劑。在反滲透膜上形成污垢與鐵垢會使水處理系統性能惡化，并需要提前更換反滲透膜。
 



納爾科
 

OSM 35T
 

與OSM 35一樣，具有優良的阻垢和兼容性能,大大減少系統中水垢的數量，降低薄膜的清洗頻率。
 



納爾科
 

OSM1035
 

專為反滲透系統開發的一種高銷阻垢劑，適宜在25℃的溫度下，用于PH值為7.5且二氧化硅含量少于185mg/l的鹽溶液。