【技術開發單位】中國科學院山西煤炭化學研究所

　　【技術簡介】本技術原為高功率激光器大口徑光學薄膜系列技術，主要包括：大口徑熔石英元件減反射膜、大口徑光學倍頻晶體保護膜、大口徑氟磷酸鹽玻璃減反射膜，涉及多孔氧化硅膜、有機無機雜化聚合物膜、氟化鎂膜、氧化鈦膜、氧化鋯膜等等。
　　利用一種簡單的疏水改性方法制備了具有超級疏水性能的減反射薄膜，使膜的穩定性大大提高。發明了一種利用有機鈦前驅體制備納米晶TiO2溶膠的合成路線，所得單層薄膜折射率達到1.9。以橋式聚倍半硅氧烷為前驅體，通過溶膠凝膠法制備了KDP晶體保護膜。通過實驗和理論計算，提出利用光學薄膜的多重分形譜預測其耐激光損傷能力。研發了有序介孔氧化硅減反膜，具有極好的光學減反射性能和耐摩擦性能。

　　【技術特點】采用Sol-gel化學鍍膜方法在先進國家已成為一項成熟的技術，美國和法國曾投入大量經費開發這種技術，目前在大型激光器的高功率光學元件膜層涂制過程已開始使用這種工藝。國內在這方面的研究起步較晚，且應用只集中在很少幾類晶體元件上，總體上講，目前我國大口徑光學元件化學鍍膜的研究尚處于研發階段，與美國在該領域的水平有較大差距。
　　本系列技術立足于國內原料，擁有完全自主知識產權和專有技術，制備簡單、基本不需要后處理、廉價、高性能，完全可以滿足光伏和集熱發電中的光學元件使用。

　　【技術指標】
　　普通減反膜：雙面膜透射率99.9%。
　　寬譜帶減反膜：減反譜帶寬300nm～550 nm，雙面膜平均透過率99.5%。
　　疏水減反膜：雙面膜透過率達99.9 %，接觸角120～165o。
　　耐摩擦減反射膜：一次成膜，避免后處理。雙面膜透過率達到98.5%，抗摩擦能力達到2.5 kg壓力下摩擦100次不損傷。
　　KDP晶體防潮保護膜：涂覆保護膜的KDP晶體透射率保持3個月不變（90%相對濕度），合成過程簡單，不需要對膜層進行任何后處理，一次成膜。
　　高反膜：最大可鍍層數已達29層，1064nm反射率達99.5%以上。

　　【技術水平】國際領先

　　【可應用領域和范圍】光伏、集熱發電光學器件。

　　【技術狀態】試生產階段

　　【合作方式】技術轉讓、合作開發、產品銷售

　　【投入需求】50萬元

　　【轉化周期】1年

　　【預期效益】推廣實施后，可以將太陽能利用效率提高8%，對于新能源發展具有重要意義。

　　【聯系方式】徐  耀  0351-4049859/13934523721